Hakemli çalışma, ışığa duyarlı polimerlerin derinliği boyunca gözenekler oluşturan derin köpük fotolitografisini tanıttı. UV-A ışığı, çözücü ve denetimli çökme birleşerek pigment veya mürekkep olmadan beyaz ve gri tonlamalı yapılar oluşturdu; çözünürlük inç başına 20.000 noktaya ulaştı. Yöntem film ve liflerde çalıştı, su iten yüzeyler ile mikroakışkan yapılara da uyarlandı.
Araştırmacılar, UV-A ışığını ışığa duyarlı bir polimer filmin yalnız yüzeyine değil, derinliğine işletti. Işık, polimer zincirlerinde kopma ve çapraz bağlanma yarattı; ardından zayıf bir çözücü, film boyunca gözenek çekirdeklenmesini başlattı. Çözücünün uzaklaştırılması sırasında gözeneklerin denetimli biçimde çökmesi, derin köpük fotolitografisi adı verilen kademeli mikro yapıyı oluşturdu.[1], [2]
Köpüğün içindeki düzensiz gözenekler ışığı dağıtarak pigment veya mürekkep olmadan beyaz görünüm oluşturdu. Gözeneklerin boyutu ve dağılımı değiştirilince gri tonları da basılabildi. Hakemli deneylerde desen çözünürlüğü inç başına 20.000 noktaya ulaştı. Renk, kimyasal boya yerine yapının ışıkla etkileşiminden doğduğu için çalışma baskı işlevi ile malzemenin fiziksel yapısını aynı süreçte birleştiriyor.[1], [2]
Denetimli çökme, nilüfer yaprağına benzer kademeli pürüzler ve su iten yüzeyler de oluşturdu. Yöntem, düzensiz ve yarı kristal polimerlerde; düz filmlerin yanı sıra liflerde çalıştı. Araştırmacılar köpürebilirliği ve ıslanabilirliği mikrometre ölçeğinde desenleyerek mikroakışkan kanallar ve pikolitrelik sıvı damlalarını yakalayan yapılar hazırladı. Bulgular laboratuvar gösterimleridir; büyük ölçekli üretim başarımı henüz sınanmış değildir. Bu ölçek büyütme ayrı bir çalışma gerektiriyor.[1], [2]
